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yo-shi
yo-shi, 一級知的財産管理技能士(コンテンツ専門業務)
カテゴリ: 特許・商標・著作権
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経験:  中央大学法学部・文学部卒業。出版社にて校正・編集業務に10年以上従事。書籍の著作権問題に詳しい。
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上記題名だけでいみがわかる半導体プロセス理解している弁護士さんを探しています。

質問者の質問

上記題名だけでいみがわかる半導体プロセス理解している弁護士さんを探しています。
つい先ほどメールで問い合わせたのですが、東京エリアだとかなり絞っておかないと直接面談して断られるとダメージが大きいので具体的な技術課題を説明した置きます。
本来SiO2が掲載されなければならないプロセスなのですがシリコン酸化膜を形成させる場所はスロットの溝のそこまで、酸化すべき膜はシリコン窒化膜という普通は耐酸化性の異常に高い膜、という厳しい条件下での酸化プロセスが必要です。
ですが、開発担当者はこれを知らずにプロセスをリリースしてしまっていて、大打撃がイールドと信頼性にある気配があります。
これ隠蔽しようとしたmanagerがいて、それを倫理担当部門に通報したのですが、なんと技術的調査をする部門がそのプロセス移管の責任部門ということで、失敗を組織的に隠蔽しようとしています。広島の弁護士に相談したところなにで訴訟をするにしても、この私の発見が必ず裁判で問われて説明できなければならず、文系の弁護士さんだった担当の方は引き受けられないといわれました。
ポイントは私の上記説明ですぐに理由が推測できる技術理解力のある敬虔のある弁護士さんが必要です。
多分マスコミにも取り上げられる程度の話題性はあると思います。(Micron-Memory)
また、マスコミに取り上げられないと、こういう通報者保護法は実質無意味(第三者が関与していないので隠蔽が簡単にできる)から、法律で第三者の酸化が義務ずけられていない場合、この裁判を契機に義務ずけるように働きかけたいと思います。 レジスト剥離用装置では酸化膜が形成されないということがすぐわかる半導体プロセスを熟知している弁護士さんを探し中
JA: 了解しました。お住まいの都道府県を教えていただけますか?
Customer: 広島県東広島市西条町寺家569-22 会社はマイクロンメモリ かなり大事なのです。損失は多分年間数十億円を下回らないはず。おまけに信頼性不良の原因として有名でインテルとか常にモニタしている不良。 場合によっては、マイクロンメモリ合同会社の社員(株主)の弁護士さんがいたらありがたいです。本当に危機的状況なので、広島の弁護士さんからそういうアドバイスを受けました。
JA: ありがとうございます。上記の他に、法律の専門家に事前に伝えておきたいことはありますか?
Customer: 会社の将来が、かなりまずいです。このけんが公になってもまずいですが 実際、私の発見を隠ぺいして、重大顧客をlossしているようです。ネットで三星 DRAM AWS ハイニックスで調べると記事が出てきます。この件は参加膜が付かない件以外のわたしの重要発見。結局商談lossした責任を取りたくないためなのでしょうか。実験結果さえ私に報告してくれません。かなり重大事件なので、マイクロンメモリ合同会社の社員の弁護士さんがいたら、その企業へ通報してください。生半可な隠蔽ではないです。
投稿: 11 日 前.
カテゴリ: 特許・商標・著作権
質問者: 返答済み 10 日 前.
38306;連資料は社外秘なので送れませんが、
https://www.microchemicals.com/technical_information/photoresist_removal.pdf
これではプラズマ酸化されないのです。業界では常識なのですが、それに気が付かないと大変なことになります。訴訟をするとMicronに対するダメージが大きいので合同会社に情報提供して適正な手段で是正しようと思います。(残された社員のため穏便にお願いします。)
質問者: 返答済み 10 日 前.
12503;ラズマ酸化には、DCバイアスが必用。レジスト剥離はもともとダメージレスのプロセスを目的にしていてプラズマで膜形成するプロセスではないから無理なんだが、これを隠蔽しようとしていること自体、技術力がなく駄目。会社へのインパクトを考えると背信行為。はやく内部監査で是正しないと一日一日リスク(顧客にばれるリスク)が高くなる。
専門家:  JustAnswerサポートチーム 返答済み 9 日 前.
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